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蔡司 钨灯丝扫描电镜EVO 10 产品用途: 产品广泛应用于半导体生产、PCB行业、工业测量、医疗技术、材料类等行业的分析与研究, 为用户提供从微米到纳米一直到亚纳米级别的全套解决方案。 性能优势: 1.操作简便–Optibeam模式,快速切换最高分辨率、最大视场6mm或景深; Specitications规格参数 序号 项目 规格、参数 1 分辨率 3 nm@ 30 kV - SE 2 加速电压范围 0.2-30kV, 10V步进 3 放大倍率 7 - 1,000,000 x(底片倍率) 4 束流 0.5pA–5uA 5 X射线几何条件 EDS分析工作距离为8.5mm,出射角度35° 6 操作模式 具有OptiBeam模式,分为分辨率、高景深、大视野,模式之间不需人工调节参数,可自由转换 7 样品室大小 310mm (Ø) x 220mm (h) 8 样品台 5轴优中心样品台 X =80mm Y=100mm 9 样品台精度 2um 10 试样最大直径 200mm 11 试样最大高度 100mm 12 样品室CCD相机 标配原厂CCD相机 13 关联显微镜 可实现蔡司光镜与电镜的完美结合,利用光镜方便定位的特点,在电镜下可迅速找到感兴趣部位,以后皆可拓展 |